設(shè)備概述:

 本設(shè)備是我公司根據(jù)市場需求研發(fā)的產(chǎn)品，其突出的特點是曝光面積大，通常情況下為Φ4"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進(jìn)行光刻，它特別適用一次光刻的產(chǎn)品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等，按用戶要求可提供圓形承片臺或方形承片臺,承片臺都能實現(xiàn)“真空密著”曝光，加之光均勻性好（Φ100mm范圍內(nèi)≤±3%），所以大大提高光刻質(zhì)量。

主要構(gòu)成
主要由防震工作臺、高均勻性4"蠅眼曝光頭、氣動系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。

主要功能特點

1.適用于5mm以下的各種基片)的一次曝光。

2.本設(shè)備配置有可實現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)；具

3. 操作簡便

4. 設(shè)備運行穩(wěn)定、可靠

5. 特設(shè)功能

主要技術(shù)參數(shù)：

1、曝光面積：Φ4"，配置4"蠅眼專用曝光頭

2、實現(xiàn)“真空密著”曝光，（通過調(diào)整真空度能實現(xiàn)硬接觸、軟接觸或微力接觸曝光）。但基片厚度≤2mm。

3、曝光*小分辨率為2μm。

4、可以為用戶制作具有預(yù)定位機(jī)構(gòu)的專用承片臺，片對版的預(yù)定位精度≤±0.1mm。

5、曝光頭用燈為<span style="font-size:16px;line-height:150%;font-family:;" "="">GCQ350Z型高壓水銀直流汞，光強(qiáng)≤10mw/cm2，光的不均勻性在Φ100mm范圍內(nèi)≤±3%，可以通過調(diào)節(jié)曝光頭光柵來改變光強(qiáng)。