G-43B9型高精密光刻機

產品介紹：

設備概述:

本設備是我公司根據市場需求研發(fā)的產品，其*大特點是曝光面積極大，通常情況下為：Φ9"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻，它特別適用一次光刻的產品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等，按用戶要求可提供圓形承片臺或方形承片臺，不管哪一種承片臺都能實現“真空密著”曝光，加之光均勻性好（Φ200mm范圍內≤±6%），所以大大提高光刻質量，我公司還可根據用戶要求，在G-43B9型光刻機外加裝對準設置，以進行版對片的精密對準曝光。

主要構成

1.適用范圍廣
適用于Φ200mm以下、厚度：5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次光刻。
2.結構穩(wěn)定
本設備配置有可實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構；配置有真空掩膜版架、真空片吸盤。
3.操作簡便
本設備操作簡單，調試、維護、修理等都非常簡便。
4.設備運行穩(wěn)定、可靠
采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。
5.特設功能
除標準承片臺外，還可以為用戶定制專用承片臺，來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題

主要技術參數：

1、曝光面積Φ9"。

2、曝光*小分辨率為3μm。

3、可以為用戶制作具有預定位機構的專用承片臺，片對版的預定位精度≤±0.1mm。

4、曝光頭用燈為GCQ350W型**壓直流球形汞燈，光強≤3.5mw/cm2，光的不均勻性在：Φ200mm范圍內≤±6%。

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