G-31B4型高精密光刻機(jī)

產(chǎn)品介紹：

設(shè)備概述

本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。

主要構(gòu)成 本設(shè)備為板板對(duì)準(zhǔn)雙面曝光CCD顯微顯示系統(tǒng)、二臺(tái)高均勻性曝光頭、Z軸升降機(jī)構(gòu)、真空管路系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級(jí)防震工作臺(tái)等組成。

1.適用范圍廣
適用于φ100mm以下、厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對(duì)準(zhǔn)曝光，雙面可同時(shí)曝光，亦可用于單面曝光。

2.結(jié)構(gòu)穩(wěn)定
Z軸采用滾珠直進(jìn)式導(dǎo)軌和可實(shí)現(xiàn)硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)，真空吸版，防粘片機(jī)構(gòu)。

3.操作簡(jiǎn)便
X\Y移動(dòng)、Q轉(zhuǎn)、Z軸升降采用手動(dòng)方式；
吸版、反吹采用按鈕方式，操作、調(diào)試、維護(hù)、修理都非常簡(jiǎn)便。 4. 可靠性高

精密的機(jī)械零件，使本機(jī)運(yùn)行具有非常高的可靠性。
    除標(biāo)準(zhǔn)承片臺(tái)外，還可以為用戶定制專用承片臺(tái)，來(lái)解決非圓形基片、碎片和底面

曝光類型：版
曝光面積：≤±3%
曝光強(qiáng)度：
曝光分辨率：2臺(tái)GCQ350W型**壓直流球形汞燈高均勻性曝光頭

對(duì)準(zhǔn)范圍：2μm

Q向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)≤

CCD系統(tǒng)，物鏡10X，計(jì)算機(jī)圖像處理系統(tǒng)，
掩模版尺寸：能真空吸附4"方形掩板，對(duì)版的厚度無(wú)特殊要求（1～3mm皆可）。

<span style="line-height:150%;font-family:;" "=""> 基片尺寸：適用于Φ3"mm圓形基片（或3"×3"mm方形基片），基片厚度≤5mm。