四川磁控濺射鍍膜機的產(chǎn)品介紹：

一、用途：

磁控濺射鍍膜設(shè)備主要用于在基片上鍍制金屬、半導(dǎo)體、電介質(zhì)、多元素化合物或混合物。利用濺射法可制備金屬膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜、硬質(zhì)膜、耐熱膜、耐腐蝕膜、超導(dǎo)膜、磁性膜、光學(xué)膜等各種特殊性能的薄膜。

二、產(chǎn)品特點：

基片尺寸適應(yīng)范圍廣，可鍍制多種材料，工藝可控性好、靈活性強、重復(fù)性高、基片溫升小、膜層附著力強，計算機全自動控制，可靠性高。且安裝維修方便，占地位置小。

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